2012年環境影響評價師《案例分析》重點知識(56)

更新時間：2012-03-02 14:12:21 來源：|0

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　　一、項目工程概況與工程分析$lesson$

　　(一)項目背景

　　本項目擬建于北京經濟技術開發區內。擬建設8英寸(20.32cra)0.35～0.18gm芯片(月投片30000片);12英寸(30.48cm)先進制程線，0.13-0.09gm芯片(月投產3000片)。本項目建設期2年(2002-2003年，實際1.25年)，試生產期2年，達產期4年，總投資為12.5億美元。

　　(二)項目概況

　　1.項目組成

　　本項目由生產設施、動力設施、化學品設施、氣體設施、環保設施、安全衛生設施、消防設施、管理服務設施以及相應的建筑物組成。芯片項目組成見表1。

　　2. 總平面布置

　　廠區總平面效果見圖1.

　　二，環境概況

　　1.地理位置

　　廠址位于北京經濟技術開發區(BDA)41、47號地塊，征地面積240030m2，其中41號地塊面積136754m2、47號地塊面積103 276m'，見圖2。

　　2.環境質量

　　本項目對芯片加工類的特征空氣污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物進行了監測。環境空氣監測了氟化物、氯化氫、氨氣、氯氣、硫酸霧、非甲烷總烴共6項;地下水環境監測，W、B共2項;土壤監測了砷(As)、硼(B)、氟(F)和鎢(W)共4項。通過監測結果可以看出環境本底較好，沒有超標的污染項。

　　3.廠址選擇合理性分析

　　由于中國與發達國家相比，在關鍵技術如軟件、集成電路和新型元器件等方面相對落后，CPU芯片和存儲器的設計與制造能力薄弱，電訊、通訊市場將是首先受到入關沖擊的領域之一。因此，我國的信息產業政策中有很重要的一條，就是中國鼓勵外資進入信息產業，希望信息產業的外商投資企業進一步提高技術檔次，擴大投資規模。深亞微米工藝技術已是國際上的主流生產技術，本項目的實施可以推廣在國內微電子技術的升級發展，提高電子產品開發、生產，并會促進我國集成電路產業走向國際。因此，該項目的性質完全符合國家信息產業發展規劃和政策。本項目為高科技、高附加值的集成電路行業，項目地址位于北京市經濟技術開發區內。在北京市"十五"時期工業發展規劃的產業布局調整目標中明確指出："北京經濟技術開發區：建設成北京現代制造業的窗口基地"，該項目的選址符合北京市"十五"時期工業發展規劃的產業布局，與加速發展高新技術產業的發展方向高度是一致的。根據本項目的規模，可以確信，本項目是實現北京市"十五"時期工業發展規劃的極其重要的項目之一。

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