【摘要】環(huán)球網(wǎng)校提醒：2015年環(huán)保工程師考試已進入備考階段。根據(jù)學員對取向分析難點的反饋，同時為進一步加深大家對取向分析相關知識點的了解，環(huán)球網(wǎng)校老師為大家整理了“2015年環(huán)保工程師基礎考點取向分析”，希望對大家有所幫助。

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　　X射線衍射取向分析（環(huán)球網(wǎng)校環(huán)保工程師頻道提供取向分析復習資料）

　　包括測定單晶取向和多晶的結構(見擇優(yōu)取向)。測定硅鋼片的取向就是一例。另外，為研究金屬的范性形變過程，如孿生、滑移、滑移面的轉動等，也與取向的測定有關。晶粒(嵌鑲塊)大小和微觀應力的測定由衍射花樣的形狀和強度可計算晶粒和微應力的大小。在形變和熱處理過程中這兩者有明顯變化，它直接影響材料的性能。

　　宏觀應力的測定宏觀殘留應力的方向和大小，直接影響機器零件的使用壽命。利用測量點陣平面在不同方向上的間距的變化，可計算出殘留應力的大小和方向。

　　對晶體結構不完整性的研究包括對層錯、位錯、原子靜態(tài)或動態(tài)地偏離平衡位置，短程有序，原子偏聚等方面的研究(見晶體缺陷)。

　　合金相變包括脫溶、有序無序轉變、母相新相的晶體學關系，等等。

　　結構分析對新發(fā)現(xiàn)的合金相進行測定，確定點陣類型、點陣參數(shù)、對稱性、原子位置等晶體學數(shù)據(jù)。

　　液態(tài)金屬和非晶態(tài)金屬研究非晶態(tài)金屬和液態(tài)金屬結構，如測定近程序參量、配位數(shù)等。

　　特殊狀態(tài)下的分析在高溫、低溫和瞬時的動態(tài)分析。

　　此外，小角度散射用于研究電子濃度不均勻區(qū)的形狀和大小，X射線形貌術用于研究近完整晶體中的缺陷如位錯線等，也得到了重視。

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